特長
優れた濡れ性
PTFEに比べ膜の表面エネルギーが高いため、フォトレジスト溶剤に対し濡れ性が優れています。
これにより初期立ち上げの時間短縮や薬品廃棄量の低減が期待できます
新製法によるメンブレン
超高分子量ポリエチレンメンブレンは、独自の新製法により完成しました
低吸着性
一般的なフォトレジスト中の界面活性剤の低吸着性が確認されています。
・ISO登録認定工場による製品
概略仕様
孔 径 | 0.05 μm、0.1 μm、0.2 μm、0.5 μm、1.0 μm | |
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材質 | フィルター | 超高分子量ポリエチレン(Ultra High Molecular Weight Polyethylene) |
コア、サポート | 高密度ポリエチレン(High Density Polyethylene) | |
O ‐ リング | O-リングEPDMまたは被覆フッ素ゴム(E-FKM)(規格AS568A-222) | |
キー | PFA(ケムロックキー付きのみ) | |
膜面積 | マイクロガード | 10インチタイプ: 8,500 cm2 20インチタイプ: 17,000 cm2 30インチタイプ: 25,500 cm2 |
マイクロガードUPX | 4インチタイプ: 5,000 cm2 10インチタイプ: 11,000 cm2 | |
最大許容正差圧 | 0.34 MPa at 25°C | |
最大許容逆差圧 | 0.24 MPa at 25°C | |
最高使用温度 | 60 °C |