蒸着装置は、大学などの各研究機関の実験装置をはじめ小ロットの生産装置として最も汎用性の高い装置として設計されています。

特長

コンパクトな外観と優れた内部機構、コントロール系を有し、排気系は、手動式及び全自動操作が可能です。誘電体膜( 光学系) から、アルミ、クロムなどの金属膜を容易に形成し、その応用は広範囲です。他に電子ビーム蒸着及び膜厚モニターによる自動蒸着制御タイプ、生産用大型蒸着も製作しております。

概略仕様

型  式 HSV-3-30G HSV-8-50 HSV-12-80
到達圧力 ×10-3Pa order ×10-4Pa order
基板加熱温度 - Max 300℃
蒸発源(電極) 2対 10V Max150A 2対 20V Max200A
バルブ操作 手動 自動 手動 自動 手動
真空槽 φ300×H300mm
透明ガラス
φ500×H500mm(水冷式)
SUS 304
φ800×H700mm(水冷式)/前扉式
SUS 304
回転機構 - 公転機構 自公転機構
内部機構 シャッター機構、抵抗加熱機構 シャッター機構,加熱ヒーター,抵抗加熱機構
主ポンプ 油拡散3inches 油拡散8inches 油拡散12inches又はクライオ
補助ポンプ 150L/min 500L/min 1500L/min
主バルブ 3inches 8inches 12inches