HSV 真空

研究開発用、及び小ロット生産用の抵抗加熱式小型蒸着装置。本シリーズの一部機種には電子ビーム(EB)の搭載も可能です。


特徴

コンパクトな外観と優れた内部機構、コントロール系を有し、排気系は、手動式及び全自動操作が可能です。誘電体膜( 光学系) から、アルミ、クロムなどの金属膜を容易に形成し、その応用は広範囲です。他に電子ビーム蒸着及び膜厚モニターによる自動蒸着制御タイプ、生産用大型蒸着も製作しております。


概略仕様

型式 HSV-3-30G HSV-8-50 HSV-12-80
到達圧力 ×10-3Pa ×10-4Pa
基板加熱温度 - Max 300℃
蒸発源(電極) 2対 10V Max150A 2対 20V Max200A
バルブ操作 手動 自動 手動 自動 手動
真空槽 φ300×H300mm
透明ガラス
φ500×H500mm(水冷式)
SUS 304
φ800×H700mm
(水冷式)/前扉式
SUS 304
回転機構 - 公転機構 自公転機構
内部機構 シャッター機構,抵抗加熱機構 シャッター機構,加熱ヒーター,抵抗加熱機構
主ポンプ 油拡散3inches 油拡散8inches 油拡散12inches又はクライオ
補助ポンプ 150L/min 500L/min 1500L/min
主バルブ 3inches 8inches 12inches